纳米工艺解决方案Nanoimprint Lightgraphy 纳米光学Nano Fabriction Solution 纳米结构加工和制作Nanoimprint Tool 纳米压印设备Nanoimprint Material 纳米压印材料 Nanoimprint Stamp 纳米压印印章
全息纳米光刻设备 新开发的一款全息光刻设备（HL系列），该设备可低成本的制作较大面积的1D/2D/3D 的纳米图案结构。
该设备无需使用掩膜版、及纳米压印模板，只需选择图形制作的类型，并设计图形结构(光栅、方形结构、圆柱结构、钻石结构等)，设置曝光程序，即可获得大面积的均匀纳米结构图形。 主要性能：可完成250nm周期结构制作（125nm线宽）可高效完成大面积1D/2D/3D 纳米级结构制作一次完成纳米结构制作无需掩膜版无需压印模板高均匀性低缺陷结构适用光栅结构、晶格结构、PSS图形衬底低成本、快速制作纳米结构适用于平面及曲面结构 2英寸全面积纳米结构制作只需1分钟分布方式可实现6英寸纳米结构制作 设备型号：HL50
设备型号：HL50
主要应用：纳米结构制作大面积光栅结构SERS 表面增强散射光子晶体LED太阳能PSS图形纳米丝衬底等 125nm光栅结构图
125nm光栅结构图
应用实例：
详细信息请联系： 电话: 86-10-87721612,87721672 传真: 86-10-87721672, 13701339561 tom@hacori.com,何先生
可完成250nm周期结构制作（125nm线宽）
电话: 86-10-87721612,87721672