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截止到2008年1月，ABM公司在世界范围售出了500多台光刻机，50多台单独曝光系统。著名的客户包括美国航天局NASA和INTEL、哈佛大学、LG、美国海军实验室、菲利普、惠普、3M等，ABM在中国各地也拥有不同领域的客户，包括众多的工厂、知名大学和研究所等。
ABM全自动光刻机（单、双面系统）
 
设备型号：ABM/6/500/NUV/DCCD/FA
ABM全自动光刻机主要规格：
 全自动化量产
衬底尺寸2英寸，4英寸，6英寸，8英寸原型或方形片。
单面对准的全自动光刻工艺
双面对准的全自动光刻工艺
双工位片盒进出设计
线性机械传送臂系统可同时承载3枚晶片的运作
产能：120-150WPH
高性能机械臂应对翘曲，形变晶片的吸附传送能力
精确的图像识别系统，可自动识别多种对准标记
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ABM全自动光刻机：
产量可达120-150WPH
稳定的性能,兼容2,4,6英寸(圆片/方片工艺)
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ABM全自动光刻机主要性能指标：
正面对准精度±1um
对准光学系统：电控双目镜双视场CCD系统
两组目镜有效视场分离可调节间距10mm-150mm
紫外波长：UV400
光强均匀性Beam Uniformity:：
--<±1% over 2” 区域
--<±2% over 4” 区域
--<±3% over 6” 区域
真空接触、接近式曝光
支持最大300um间距接近式曝光
自动水平面校正系统
控制系统PLC/PC
支持恒定光强或恒定功率模式
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ABM全自动光刻机：
自动对准功能可适用
各种对准标记.
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详细信息请联系：
 电话: 86-10-87721612,87721672
传真: 86-10-87721672
 tom@hacori.com,何先生
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