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超高真空电子束蒸镀设备 UHV E-beam System

   
                                              电子束蒸发系统LJ-550E

主要指标:
  类型:               1x20cc,4x70cc, 3KW, 6KW
  真空(Torr)     5×10-7,5×10-9
  压力控制:       可选
  流量控制:       可选
  加热:              400 ℃
  基板:              2,3,4,6,2"x5 or bigger
  晶片转速:       30-120rpm
  辅助沉积工艺:离子源辅助,等离子体辅助,基座偏压(Bias)
  loadlock:         可选
  真空計:           Ion/冷陰極/熱偶式 數位显示 

我们也可针对不同厂商/功率的电子枪结合工艺要求为您选择最佳的方案。


                                            电子束蒸发系统LJ-SET-300

          
                             电子束蒸发系统LJ-550E控制系统

详细信息请联系:
 
电话: 86-10-87721612,87721672
传真: 86-10-87721672
 
tom@hacori.com,何先生

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