美国Cee®兆声清洗显影设备

Cee® Benchtop Megasonic Developer and Cleaner
Cee® 300MXD可有效清除0.15um的微尘及杂质，并不会对基板表面造成损伤

Brewer Science拥有30年的匀胶设备制造历史，Cee® 热板的0.3%的温度均匀性，和匀胶转速小于0.2rpm转速精度及可重复性是业内领先的标准。Cee®设备拥有多项行业内专利和标准，通过不断把最新的技术融入设备中，Cee®将继续成为半导体下一代工艺的领先者。

Cee®在全球拥有超过1500个客户，其中包括知名的：杜邦、朗讯、德州仪器、Axcelis Technologies、摩托罗拉、希捷、Sony音乐、IBM 、道康宁、BAE系统公司和IBM等，在中国Cee®品牌也拥有众多的成功客户。

CEE®300MXD 兆声清洗显影设备

通过特殊设计的放射状的兆频超声波阵列为旋转的基板提供均匀的超声能量。
通过柱流方式进行兆声显影和清洗的方式，也同样适合易碎片的显影和清洗工艺。

主要性能指标：

  主机机箱采用不锈钢材料（抗化学腐蚀易清洁）
  旋涂程序：无限可变，每个步骤可精确到0.1秒
  转动速度：0-6,000rpm(3000rpm，4000rpm可选, 并提供超高加速度)
   旋涂加速度：0-30000rpm/sec（空载）
   转速调节精度<0.2rpm，重复性< 0.2rpm
   工艺时间设定： 0-9,999.9 sec/step 0.1 精度
   支持wafer尺寸：小于3英寸，最大支持wafer 450mm，或14x14英寸基板）
   设备尺寸  13.25” (33.65 cm) W × 19” (48.26 cm) D × 12” (30.48 cm) H