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 美国Cee®喷涂显影设备
Cee® Benchtop Spin Coater, Bake Plate and Develop Equipment

Cee® 品牌设备证明了可以在小型、灵活和更便宜的设备上实现价值百万美元设备的均匀性

Brewer Science拥有30年的匀胶设备制造历史,Cee® 热板的0.3%的温度均匀性,和匀胶转速小于0.2rpm转速精度及可重复性是业内领先的标准。Cee®设备拥有多项行业内专利和标准,通过不断把最新的技术融入设备中,Cee®将继续成为半导体下一代工艺的领先者。

Cee®在全球拥有超过1500个客户,其中包括知名的:杜邦、朗讯、德州仪器、Axcelis Technologies、摩托罗拉、希捷、Sony音乐、IBM 、道康宁、BAE系统公司和IBM等,在中国Cee®品牌也拥有众多的成功客户。
                           
                                      Cee®200XD 喷涂显影设备

 喷涂显影设备主要性能指标
 主机机箱采用不锈钢材料(抗化学腐蚀易清洁)
 旋涂程序:250,000个程序,没程序步骤限制,每个步骤可精确到0.1秒
 转动速度:0-12,000rpm(16,000rpm可选)
  Windows XP 控制系统
  加速度:0-30000rpm/sec(空载)
  转速调节精度0.2rpm,重复性< 0.2rpm
  自动程序压力控制显影液喷涂功能
  自动程序压力控制去离子水喷涂功能
  自动程序控制氮气吹拂功能

  支持wafer尺寸1cm-200mm全尺寸卡盘

  显影液方式:喷淋式、浸没式、水柱式

 

   


    

选件:
 
可与其他设备配合使用,可与热板组成显影/热板机型(Cee200XCBD
 加装Wet Bench(湿台选配)

  
下载喷涂显影设备资料

详细信息请联系:
 
电话: 86-10-87721612,87721672
传真: 86-10-87721672
 
tom@hacori.com,何先生