SEARCH
·中 文  ·  English·
首   页               产 品 介 绍               技 术 服 务               合 作 伙 伴               关 于 我 们               联 系 我 们
    美国ABM光刻机
    美国Cee®匀胶机热板显影
    UV紫外纳米压印设备
    全息纳米光刻设备
    NILT台式纳米热压设备
    纳米压印模板制作
    超高真空薄膜设备
    美国Cee®兆声清洗显影
    AIT凸点电镀设备
    离子源辅助镀膜系统
当前位置:首页 > 美国Cee®匀胶机热板显影 > 均匀性测试

 美国Cee®均匀性测试
Cee® Benchtop Spin Coater, Bake Plate and Develop Equipment

Cee® 品牌设备证明了可以在小型、灵活和更便宜的设备上实现价值百万美元设备的均匀性

Brewer Science拥有30年的匀胶设备制造历史,Cee® 热板的0.3%的温度均匀性,和匀胶转速小于0.2rpm转速精度及可重复性是业内领先的标准。Cee®设备拥有多项行业内专利和标准,通过不断把最新的技术融入设备中,Cee®将继续成为半导体下一代工艺的领先者。

Cee®在全球拥有超过1500个客户,其中包括知名的:杜邦、朗讯、德州仪器、Axcelis Technologies、摩托罗拉、希捷、Sony音乐、IBM 、道康宁、BAE系统公司和IBM等,在中国Cee®品牌也拥有众多的成功客户。

 Su8 25光刻胶均匀性测试(200mm, 8英寸Wafer):
   14.63um ±0.25um (1.7%)

   

 495PMMA A11 光刻胶均匀性测试(200mm, 8英寸Wafer):
    1.26um ±0.008um (0.63%)
   

 
S1805 光刻胶均匀性测试(200mm, 8英寸Wafer):
    0.6694um ±0.002um (0.29%)
   


 AZ1512 光刻胶均匀性测试(200mm, 8英寸Wafer):
     1.32um ±0.004um (0.348%)
   


 

怡合瑞丰科技发展有限公司 © 版权所有 Haco Richful Technical Development Co., Limted. All Rights Reserved
电话:86-10-87721612,87721672 传真:86-10-87721672 E-Mail:info@hacori.com 京ICP备09000867号